O Instituto Federal de Ciência, Educação e Tecnologia Fluminense está com inscrições no Vestibular IFF 2018, que oferece 484 vagas distribuídas entre cursos superiores nas modalidades de Bacharelado, Licenciatura e de Tecnologia das unidades de Bom Jesus do Itabapoana, Cabo Frio, Campos Centro, Campos Guarus, Itaperuna e Macaé.
A única exigência para participação no processo seletivo é que o candidato possua diploma ou certificado de conclusão do ensino médio. As inscrições permanecerão abertas até às 20h da data limite de 16 de outubro, devendo ser realizadas pela internet, por meio de formulário disponível no site inscricoes.iff.edu.br.
Para confirmar o cadastro será preciso pagar a taxa de R$ 25,00 através da Guia de Recolhimento da União (GRU), lembrando que candidatos que atenderem as duas exigências abaixo poderão solicitar a isenção deste valor até 26 de setembro, presencialmente na sede de oferta do curso escolhido:
- possuir renda familiar igual ou inferior a um salário mínimo e meio (R$1.405,50) por pessoa;
- ter cursado o ensino médio completo em escola da rede pública ou como bolsista integral em escola da rede privada.
O Vestibular IFF 2018 conta com duas fases. A primeira consiste numa prova objetiva com aplicação marcada para 26 de outubro, das 8h30min às 12h30min (horário de Brasília), no câmpus de oferta do curso para o qual o candidato se inscreveu. A avaliação de Aptidão Específica da primeira fase para candidatos aos cursos de Bacharelado em Arquitetura e Urbanismo e de Tecnologia em Design Gráfico será realizada no mesmo dia, das 15h às 18h. Já a segunda etapa do processo seletivo está marcada para 17 de dezembro, no período entre 8h30min e 12h30min.
O resultado final com a lista de aprovados na primeira chamada está previsto para 23 de janeiro do ano que vem, com divulgação no site oficial do instituto.
Mais informações como distribuição das vagas entre unidades e modalidades de concorrência (geral e cotas), regras gerais e endereços e contatos de cada sede, podem ser consultadas neste Edital.
